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Intel新技术欲将芯片缓存体积缩数十倍

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目前Intel试制出的存储单元栅极长度在30nm,整个存储单元的面积为0.01平方微米,是目前Intel 45nm处理器中缓存单元体积的1/30。

来源:ZOL 2008年6月20日

关键字: Intel 芯片 英特尔专题 缓存

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  日前在夏威夷举行的VLSI技术论坛上,Intel向外界展示了他们最新改进的FBC浮体单元(floating-body cell)技术,有望将处理器芯片内的缓存单元体积缩小数十倍,有望实现更高的数据存储密度。

  早在2006年的IEDM会议上,Intel就展示过这项技术的构想。但两年后,Intel表示他们的技术已经进化了两代,对架构进行了大幅度修改,电荷改为水平存储,并使用了SOI绝缘硅技术打造出厚度仅22nm的硅基层。

  目前处理器中的SRAM每个存储单元需要六个晶体管,而采用FBC技术仅需一个。同时,FBC由于不需要特殊电容,比嵌入式DRAM技术成本更低。目前Intel试制出的存储单元栅极长度在30nm,整个存储单元的面积为0.01平方微米,是目前Intel 45nm处理器中缓存单元体积的1/30。

  该技术未来有望使用在15nm甚至更先进的制程技术中,只是目前Intel仅仅在单个存储单元中进行试验,尚未制造出大规模的FBC存储单元阵列。

  另外,Intel在会上还展示了其芯片制造技术的最新进展,在去年45nm High-K金属栅极技术的基础上,今年又提出了“应变增强晶体管”技术,有望降低功耗32%,同时提高性能。

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