英特尔在爱尔兰工厂使用EUV大规模生产Intel 4节点

这也是欧洲首家使用下一代光刻技术进行商业生产的工厂。

英特尔正准备在其位于爱尔兰莱克斯利普的工厂启动Intel 4工艺的批量生产，这也是芯片巨头首个使用极紫外（EUV）光刻技术的生产节点。

英特尔公司将于周五邀请CEO Pat Gelsinger和首席全球运营官Keyvan Esfarjani等重量级人物参加活动，庆祝Intel 4在其爱尔兰工厂的正式落地。这项新工艺将用于打造即将推出的Meteor Lake PC处理器。

同时，该公司宣称新的制程技术也开创了“其他英特尔产品的未来”，包括用于增强AI的处理器，以及用于驱动数据中心的改进服务器芯片。此外，英特尔还声称，Intel 4的推出使该公司有望在未来四年内交付五个节点，并“到2025年重新获得工艺领先地位”。

18个月的设计与施工，只为筹备极紫外光刻设备容纳场地

尽管Intel 4的开发和早期制造是在英特尔位于俄勒冈州的工厂进行，但莱克斯利普制造工厂才是该节点的首个批量生产设施。英特尔表示，过去几年间他们已经斥资170亿欧元（约合185亿美元）将该处工厂的生产空间扩大了一倍。

该芯片制造商此前曾经表示，与采用Intel 7制造的产品相比，Intel 4将使每瓦性能提高20%。但千万别被名称迷惑了，Intel 7并不是7纳米制程，而是采用英特尔增强型SuperFin晶体管的10纳米工艺。

该公司指出，Intel 4是通过EUV光刻技术实现的。这是因为EUV设备能够比以往使用深紫外光刻（DUV）的套件更小、更精确地定义芯片特征。英特尔表示，通过使用13.5纳米波长的紫外光，即可制造出更小的特征并减少所需的总体制造步骤。

目前，全球仅有ASML能够生产极紫外光刻设备。英特尔去年宣布从这家荷兰公司处拿到了第一批套件，用于装备其莱克斯利普工厂。

英特尔当时解释称，“这可以说是人类建造过的最复杂的机械”，拥有10万个零件、3000根线缆、4万个螺栓加上超过1英里长的软管，且容纳该装置的场地先后花了18个月才设计和建设完成。

其他半导体制造商，例如台湾省台积电，拥有EUV设备已经有段时间了。然而这家全球最大的代工运营商最近表示，面对充满不确定性的市场现状，他们将停止进一步交付某些先进芯片制造设备。

Gartner公司新兴技术与趋势部门副总裁分析师Alan Priestley评论称，“对于晶圆代工厂来说，EUV并不是真正的问题，批量生产特定节点的能力才是（这一点非常重要）。如果能做到这一点、但又不需要借助EUV，那没有任何厂商会非得使用EUV。所以尽管台积电确实比英特尔更早地用上了EUV，但这并不一定意味着英特尔技术上的落后。真正决定一切的，永远是交付特定节点的能力。展望未来，新节点可能需要EUV乃至即将推出的NA-EUV。”